PURCELL PixelBiome™ O₂ Enhancer Modeling Mask
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PURCELL PixelBiome O₂ Enhancer Modeling Mask — Masque oxygénant

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Bietet einen sofortigen Strahlkraft-Boost durch eine Sauerstoffinfusion, die fahle Haut zum Strahlen bringt.

Stärkt die Hautbarriere und gleicht das Mikrobiom aus für eine widerstandsfähigere und beruhigte Haut.

Die Textur der Modeling-Maske sorgt für ein Spa-Erlebnis zu Hause und hinterlässt die Haut tief hydriert, glatt und prall ✨.
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🌿  Schlüsselzutat
• Niacinamid – Stärkt die Hautbarriere, reguliert überschüssigen Talg und vereinheitlicht den Teint, während es Rötungen reduziert. ✨

• Hyaluronsäure – Spendet intensive Feuchtigkeit, polstert die Haut auf und hilft, Wasser im Gewebe zu speichern. 💧

• Extrakt aus Centella Asiatica – Beruhigt Irritationen, fördert die Hautregeneration und verbessert die Wundheilung. 🌿

• Probiotische Fermente (PixelBiome™) – Unterstützen das Hautmikrobiom, stärken die Barriere und verbessern die Widerstandskraft der Haut. 🦠

• Adenosin – Hilft, Falten zu glätten und verbessert die Elastizität der Haut. ⏳

• Panthenol – Beruhigt, spendet Feuchtigkeit und stärkt die Hautbarriere gegen äußere Einflüsse. 🛡️
📖  Anwendung
Bringe mit dieser Modelliermaske ein Stück „koreanische Hautklinik“ zu dir nach Hause. Nachdem du dein Gesicht gereinigt hast, mische das Pulver und den Aktivator (oder folge einfach den angegebenen Schritten), bis eine homogene Textur entsteht, und trage dann eine dicke Schicht auf das gesamte Gesicht auf, dabei Augen und Mund aussparen. Lasse die Maske 15–20 Minuten einwirken, um die Sauerstoffversorgung und das Gleichgewicht des Mikrobioms zu fördern, und entferne die Maske anschließend in einem Stück. Klopfe das überschüssige Serum sanft ein. Ideal in der K-Beauty-Routine 1-2 Mal pro Woche, nach dem Toner und vor deiner Creme.

PURCELL PixelBiome™ O₂ Verstärkende Modelliermaske

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